快速退火炉RTP-Table-6

快速退火炉RTP-Table-6产品介绍

概要

RTP-Table-6是在保护气氛下的桌面手动快速退火系统，以红外可见光加热单片Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 2-6 英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系 统和其他 RTP 系统，其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的RL900软件控制系统，确保了极好的热均匀性。

产品特点

▲红外卤素灯管加热，冷却采用风冷;

▲灯管功率PID控温，可精准控制温度升温，保证良好的重现性与温度均匀性;

▲采用平行气路进气方式，气体的进入口设置在Wafer表面，避免退火过程中冷点产生，保证产品良好的温度均匀性;

▲大气与真空处理方式均可选择，进气前气体净化处理;

▲标配两组工艺气体，最多可扩展至6组工艺气体;

▲可测单晶片样品的最大尺寸为6英寸（150mm）;

▲采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障仪器使用安全。

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A、氧化物、氮化物生长

B、硅化物合金退火

C、砷化镓工艺

D、欧姆接触快速合金

E、氧化回流

F、其他快速热处理工艺

基本配置