刻蚀设备RTD晶圆测温系统 Thermo-349R产品简介
Thermo-349R系列 RTD晶圆温度测量系统，可用于8-12英寸晶圆配置，记录等离子刻蚀工艺环境对真实工艺条件下生产晶圆的影响。Thermo-349R温度测量系统包含高精度温度传感器，能够实现晶圆整体温度监测，而这与半导体刻蚀工艺的均匀性控制密切相关。配合 TC Wafer 温度数据读取适配的多功能仪器。内含软件可以读取TCWafer测温数据并进行分析。
产品特点
▲传输通道数量可定制;
▲优异的软件功能，可用图形及颜色显示温度分布状况;
▲数据可储存调用;
▲可提供各个量温点的温度曲线图及温度剖面图。
基本配置
| 项目 | 指标 |
| 晶片尺寸 | 8-12英寸(8 英寸以下待论证) |
| 基材 | 硅片 |
| 测温点数 | 49、65(可由客户指定) |
| 测温元件 | RTD |
| 温度范围 | 20~150℃(范围可由客户指定) |
| 温度精度 | ±0.05℃ |
| sensor ro sensor | ±0.05℃ |
| 数据传输方式 | USB |
| 软件 | RTD Wafer 专用软件，实时曲线与Wafer Mapping云图 |
| 主机 | RTD Wafer 测温系统一体机 |
