晶圆快速退火炉，瑞乐晶圆快速退火炉，瑞乐晶圆快速退火炉RTP-150RL

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一、简介
1.1 概要
RTP-150RL是在保护气氛下的桌面式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，适用最大6英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系统和其他RTP系统，其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的RL900软件控制系统，确保了极好的热均匀性。
 
 
1.2 产品特点

•  红外卤素灯管加热，冷却采用风冷

•  灯管功率PID控温，可精准控制温度升温，保证良好的重现性与温度均匀性

•  采用平行气路进气方式，气体的进入口设置在Wafer表面，避免退火过程中冷点产生，保证产品良好的温度均匀性

•  大气与真空处理方式均可选择，进气前气体净化处理

•  标配两组工艺气体，最多可扩展至6组工艺气体

•  可测单晶片样品的最大尺寸为6英寸（150×150mm）

•  采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障仪器使用安全

 
1.3 RTP欧宝最新登录入口

•  氧化物、氮化物生长

•  硅化物合金退火

•  砷化镓工艺

•  欧姆接触快速合金

•  氧化回流

•  其他快速热处理工艺

•   离子注入激活

行业领域：

•   芯片制造 生物医学 纳米技术

•   MEMS LEDs 太阳能电池

•   化合物产业 ：GaAs，GaN，GaP，

•   GaInP，InP，SiC

•   光电产业：平面光波导，激光，VCSELs

 
二、技术规格
2.1参数